Volumenstreuung von synthetischem Quarzglas bei 193 nm

S. Schröder1, B. KĂŒhn2, A. DuparrĂ©1
1Fraunhofer-Institut Angewandte Optik und Feinmechanik, Jena, 2Heraeus Quarzglas, Hanau
sven.schroeder@iof.fraunhofer.de
 
In den letzten Jahren hat die Bedeutung von hochreinem synthetischen Quarzglas als optisches Material fĂŒr den tiefen ultravioletten Spektralbereich stetig zugenommen. Insbesondere in Projektionsoptiken fĂŒr moderne 193 nm Immersionslithografie-Systeme kommt fast ausnahmslos dieses Material zum Einsatz. Allerdings treten Effekte wie Streulicht und Absorption auf, die sich in kritischem Maße auf die nutzbare Strahlungsleistung und die AbbildungsqualitĂ€t auswirken. Beide Mechanismen mĂŒssen daher untersucht und separiert werden, um die Materialien zielgerichtet weiterzuentwickeln und Abbildungsfehler geeignet zu kompensieren. Es werden Ergebnisse winkelaufgelöster und totaler Streulichtmessungen bei 193 nm an synthetischen QuarzglĂ€sern mit verschiedenen fiktiven Temperaturen und Hydroxyl-Gehalten prĂ€sentiert.
Keywords:
Optische Materialien, Messtechnik
108. Tagung, Poster: P6